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展商动态|宁波启朴芯微8寸线薄膜制备工艺介绍

原子层沉积

原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD）是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术，通过将气相前驱体交替脉冲通入反应室并在沉积基体表面发生气固相化学吸附反应形成薄膜。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。

ALD的工作原理示意图：

（图片来自于网络，侵权即删）

氧化铝成膜举例：

（图片来自于网络，侵权即删）

原子层沉积优势

  1. 极佳的附着力：前驱体与基底材料的化学吸附保证了极佳的附着力。
  2. 饱和吸附特性：表面反应的自限制性使工艺的自动化成为可能，同时不需要精确的剂量控制和操作人员的持续介入。
  3. 有序反应：薄膜的数字化有序生长过程提供了极高的薄膜精度。
  4. 表面控制反应：表面反应确保了在任何条件下薄膜的高保型，不管基底材料是致密的、多孔的、管状的、粉末状的或是其它具有复杂形状的物体。
  5. 精确性和可重复性：一个循环的薄膜生长厚度是由工艺决定的，但通常是1Å。
  6. 超薄，密实和平整：无针孔薄膜，例如高质量的阻挡层和表面钝化。
  7. 较宽的温度窗口，低温生长。
电子束蒸镀

电子束蒸镀是将待蒸发材料放入水冷坩埚中，将电子束通过5~10kV的电场后加速，聚焦至靶材表面，使材料局部熔化或气化蒸发后凝结在基板表面成膜。依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，可分为环形枪、直枪、e型枪和空心阴极电子枪等几种。

电子束工作原理示意图：

（图片来自于网络，侵权即删）

常用e型枪工作原理示意图：

（图片来自于网络，侵权即删）

电子束优势

  1. 电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度，可以使高熔点材料蒸发，并且能有较高的蒸发速度；
  2. 由于被蒸发材料是置于水冷坩埚内，因而可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之间的反应，提高镀膜的纯度；
  3. 热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热效率高，热传导和热辐射的损失少。
热蒸发

电阻加热蒸发是采用W，Mo等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让电流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放坩埚中进行间接加热蒸发。

热蒸发工作原理示意图：

（图片来自于网络，侵权即删）

热蒸发优势

利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机构造简单、造价便宜、使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。

宁波启朴芯微系统技术有限公司专业定制研发各类型光学镀膜产品，如窄带滤波片、带通滤波片、宽波段吸收膜、布拉格镜等光学镜片。

宁波启朴芯微薄膜制备工艺能力表

宁波启朴芯微系统技术有限公司镀膜样品：

关于启朴芯微：

宁波启朴芯微系统技术有限公司专注于MEMS器件设计、工艺开发、流片代工，建有全系8英寸MEMS工艺产线，兼容6/4英寸晶圆级加工，拥有光学类与SOI类特色工艺能力，提供对准光刻、深硅刻蚀、晶圆键合、薄膜沉积、减薄抛光、湿法腐蚀、氧化退火、激光划片、打线封装等工艺开发与稳定流片服务。

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